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钛合金局部化学镀镍及电化学氧化工艺研究
钛合金局部化学镀镍及电化学氧化工艺研究
来源 :2007年第七届全国转化膜会议暨技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cqnc4444
【摘 要】
:
本文对钛合金局部化学镀镍及电化学氧化工艺进行了探讨。文章认为,采用该工艺完全可以得到合格的镀层及电化学氧化膜层,但应严格注意化学镀镍液活化剂浓度及电化学氧化时电压的控制及化学镀镍层的保护方法,以提高零件外观。
【作 者】
:
李红亮
【机 构】
:
228厂 吉林长春
【出 处】
:
2007年第七届全国转化膜会议暨技术研讨会
【发表日期】
:
2007年8期
【关键词】
:
钛合金部件
复层保护
化学镀镍
氧化膜层
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本文对钛合金局部化学镀镍及电化学氧化工艺进行了探讨。文章认为,采用该工艺完全可以得到合格的镀层及电化学氧化膜层,但应严格注意化学镀镍液活化剂浓度及电化学氧化时电压的控制及化学镀镍层的保护方法,以提高零件外观。
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以PVD钛薄膜为基材阳极氧化制备TiO纳米孔阵列及其表征
采用物理气相沉积(PVD)的方法,以导电玻璃为基材沉积金属Ti薄膜,并将其作为阳极,在1%HF溶液中采用恒压(20V)阳极氧化的方法,制备出了具有纳米孔阵列结构的TiO薄膜。研究表明,形成的TiO薄膜具有多孔结构,微孔均为贯穿孔,孔形基本为圆形,孔径均匀,孔径大约为50nm。在15℃溶液中阳极氧化相同时间制备的TiO氧化膜的厚度显著大于25℃的溶液。TiO氧化膜的厚度随着阳极氧化时间的延长而增加。
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