光致产酸剂应用于I线光刻研究

来源 :2017第十五届全国光化学学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yjszf22222222

【摘要】

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　　I线光刻技术是目前应用最广泛的光刻技术之一，可制备亚微米级图形.相比常用于I线光刻的酚醛树脂/重氮萘醌(Novolac/DNQ)体系，化学放大光刻胶(CAR)具有灵敏度高和分辨率好等

【作者】

：

王亚飞;王双青;杨国强;

【机构】

：

中国科学院化学研究所,北京市海淀区中关村北一街2号,100190

【出处】

：

2017第十五届全国光化学学术讨论会

【发表日期】

：

2017年期

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　　I线光刻技术是目前应用最广泛的光刻技术之一，可制备亚微米级图形.相比常用于I线光刻的酚醛树脂/重氮萘醌(Novolac/DNQ)体系，化学放大光刻胶(CAR)具有灵敏度高和分辨率好等优势，但CAR中的光致产酸剂多数对紫外波段光响应性较差，故尽管CAR已广泛应用于193nm光刻，却少见用于I线光刻.因此，本T作设计合成了一种365nm光致产酸剂，并将其用于I线激光干涉光刻和I线近场光刻.光刻分辨率均小于I线光衍射极限，分别为93.3～37.8nm和28nm.本工作进一步拓展了CAR的使用范畴，为继续提高I线光刻胶性能提供了新的可能.

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