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讨论脉冲激光沉积原理,利用PLD在Si(001)衬底上生长ZnO薄膜,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM)等测试手段研究了不同衬底温度所生长的ZnO薄膜结构特征和性能.研究表明:衬底温度影响ZnO薄膜结构和性能.在500℃～600℃沉积范围内随着温度升高,ZnO薄膜结构和性能提高.
ZnO薄膜PLD过程的机理及实验研究
【摘 要】
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讨论脉冲激光沉积原理,利用PLD在Si(001)衬底上生长ZnO薄膜,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM)等测试手段研究了不同衬底温度所生长的ZnO薄膜结构特征和性能.研究表明:衬
【机 构】
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江西师范大学物理与通信电子学院,南昌,330022
【出 处】
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全国十五届十三省光学学会学术大会
【发表日期】
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2006年期
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