【摘 要】
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研究了脉冲频率f及占空比r对电沉积RE-Ni-W-P-siC复合镀层沉积速度、镀层成分、形貌及硬度等性能的影响。结果表明：脉冲电流能明显提高电沉积RE-Ni-w-P-siC的沉积速度；镀层中w、P和siC含量均随脉冲频率的增加而降低。在f=33Hz时达到最低值，镀层中RE含量的变化恰好相反；镀层中siC含量随占空比的提高而降低，对RE含量影响不大。当r=O．4时，镀层中w含量最低，P含量最高。占空
【机 构】
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研究了脉冲频率f及占空比r对电沉积RE-Ni-W-P-siC复合镀层沉积速度、镀层成分、形貌及硬度等性能的影响。结果表明：脉冲电流能明显提高电沉积RE-Ni-w-P-siC的沉积速度；镀层中w、P和siC含量均随脉冲频率的增加而降低。在f=33Hz时达到最低值，镀层中RE含量的变化恰好相反；镀层中siC含量随占空比的提高而降低，对RE含量影响不大。当r=O．4时，镀层中w含量最低，P含量最高。占空比对镀层中；脉冲电流及添加RE颗粒能起到明显的细化晶粒作用。但不同脉冲频率和占空比对脉冲电沉积RE—Ni—W—P—siC复合镀层表面形貌的影响不大；在f=50Hz，r分别为O．6和0.8时，复合镀层硬度均达到最大值。同一脉冲频率下，当r=O．8时获得的复合镀层，硬度高于r=O．6时获得的复合镀层。
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