等离子体表面技术已经得到了越来越广泛的应用,真空等离子体表面技术也得到了长足发展。无论是真空获得、等离子体产生与控制,还是自动化过程控制以及应用电源技术,每一个技术的进步都为真空镀膜的水平提升提供了基础和平台。为了获得更好的膜层质量和工艺优化,人们采用多种复合等离子体源或复合偏压电源或复合等离子体源/偏压电源技术,如射频/磁控、阴极弧/磁控、离子注入/沉积等等以产生需要的综合表面性能,然而这些复合一般需要分离的源头或分批处理,不仅占用空间,而且工艺复杂。国际上的一种新趋势已经出现------耦合电源技术,即所用的电源不再孤立工作,而是同体耦合,这样不仅节省了空间,更关键的是使得膜层质量和性能得到大幅度提高、工艺优化更加简便。本研究所已经开发出一些列耦合电源,其中包括:高压脉冲/射频同体耦合电源、高压脉冲/低压直流耦合电源、高脉冲/直流磁控电源(高功率脉冲磁控溅射)、射频/直流磁控溅射电源、中低压脉冲/直流偏压电源、直流/射频偏压电源等等。本文结合国外发展趋势和本研究所的研究成果,介绍这些耦合电源的设计、放电控制、应用优势以及潜在的发展前景。