【摘 要】
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有机溶剂在现代工业中起着举足轻重的作用,可用于高分子合成、有机化工、医药、生物燃料等诸多领域.随着高分子合成的迅速发展,对N,N-二甲基甲酰胺(DMF)的需求越来越多,同时也对其纯度提出了更高的要求.影响DMF纯度的因素很多,其中金属离子是最常见且难以脱除的杂质之一,这是因为在其生产、运输和储存的过程中会不可避免地受到金属离子的污染.金属离子的存在会对溶剂的使用性能造成不良影响,在高分子合成过程中
【机 构】
:
鲁东大学化学与材料科学学院,烟台264025
【出 处】
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中国化学会第18届反应性高分子学术研讨会
论文部分内容阅读
有机溶剂在现代工业中起着举足轻重的作用,可用于高分子合成、有机化工、医药、生物燃料等诸多领域.随着高分子合成的迅速发展,对N,N-二甲基甲酰胺(DMF)的需求越来越多,同时也对其纯度提出了更高的要求.影响DMF纯度的因素很多,其中金属离子是最常见且难以脱除的杂质之一,这是因为在其生产、运输和储存的过程中会不可避免地受到金属离子的污染.金属离子的存在会对溶剂的使用性能造成不良影响,在高分子合成过程中,会引起一些催化剂的严重中毒、自由基失活,使反应物活性降低,对聚合反应起到缓聚或阻聚作用.因此,合成对DMF体系中金属离子具有良好吸附能力的吸附材料备受关注.本文分别发散合成法,合成了硅胶负载第1.0、2.0、3.0代PAMAM树形大分子(Si02-Gl.O~Si02-G3.0),并将其应用于DMF中Fe(Ⅲ)的吸附分离。从饱和吸附量可以看出对DMF中Fe(Ⅲ)有较好的吸附性能,吸附量顺序为Si02-G2.0> Si02-Gl.O>Si02-G3.0。由吸附动力学曲线可以看出,Si02-Gl.O-Si02-G3.0对Fe(Ⅲ)的动力学饱和吸附量仍然遵循Si02-G2.O>Si02-Gl.O>S102-G3.0的顺序。
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