一种厚耗尽层Si探测器的研制

来源 :第十四届全国核电子学与核探测技术学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lcc2451
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本文描述了一种具叠层结构基于平面工艺技术的厚耗尽层Si探测器的制备技术和性能测试结果。这种探测器的最突出优点是在较低的偏压下(例如150伏)可以得到较厚的耗尽层(例如4mm).测量结果显示,对207Bi内转换电子源975.6KeV峰的能量分辨为大约30KEV.另外,这种探测器反向漏电流小(150偏压下其反向漏电流典型值小于20nA),可经受高温(60℃)的考验。
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