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该文详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法。针对用于CO<,2>激光器模式优化元光学反射镜，作者分析了元件制作误差，包括掩模对准误差、台阶刻蚀深度误差和阶刻蚀宽度误差对谐振腔振荡模式的影响。
二元光学元件的制作及其误差分析
【摘 要】
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该文详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法。针对用于CO激光器模式优化元光学反射镜，作者分
【机 构】
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中国电信总局传输维护处
【出 处】
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展望21世纪初光电技术发展趋势研讨会
【发表日期】
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2000年期
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