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<正>1 概述高纯氨和高纯三甲基镓是金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)技术生产第三代半导体材料-氮化镓的关键支撑材料。金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD) 技术制备氮化镓(GaN),要求所使用的高纯氨和高纯三甲基镓必需高纯超净,其纯度水平为99．9999％(6N)。
高纯氨和高纯三甲基镓规模化生产技术
【摘 要】
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<正>1 概述高纯氨和高纯三甲基镓是金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)技术生产第三代半导体材料-氮化镓的关键支撑材料。金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD) 技术制备氮化镓
【机 构】
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大连保税区科利德化工科技开发有限公司;
【发表日期】
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2004年期
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