论文部分内容阅读
不同快淬速度对NdFeMoB磁性的影响
【机 构】
：
南京大学物理系
【出 处】
：
第十届全国磁学和磁性材料会议
【发表日期】
：
1999年12期
其他文献
用电子束蒸镀和二极直流溅射方法分别制作了钴铬垂直磁化薄膜：1.用VSM等方法作了磁性等测量。证明蒸镀和溅射两种方法都能制备出优质钴铬垂直磁化薄膜；2.用高分辨透射电镜作了晶粒形貌、选区衍射和能谱分析，揭示了Co-Cr垂直磁化薄膜的成分和结晶结构的微观状况；3.用STM针尖显微镜作了晶粒形貌、剖面曲线和AFM和MFM针尖显微镜分别作了同一选区的晶粒形貌和相应磁畴结构的比较。这些实验都得到很好的结果。
利用常用的射频溅射装置，制备了替代量不同的La-Zn替代Sr-xFe-xx19(x=0,0.1,0.2,0.3,0.4)锶铁氧体薄膜。通过XRD、AFM及VSM等测试分析手段，对薄膜的晶体结构、表面形貌、磁性及其与温度的关系进行了测试与分析。结果表明La-Zn元素的添加，在使薄膜的磁性得到较大改善的同时，显著降低了退火过程中薄膜中晶粒的生长速率，从而得到了晶粒尺寸大约为12纳米的薄膜。适当的替代将