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介绍了化学气相沉积(CVD)技术制备难熔金属钽涂层的原理及方法。利用TaCl5-H2-HCl 反应体系，以冷壁式化学气相沉积法在钼基体表面沉积了钽涂层。研究了沉积温度对钽涂层的的显微组织、力学性能及断口形貌等的影响。结果表明：在1000～1300℃范围内，涂层晶粒尺寸随沉积温度的升高逐渐增大，涂层的抗拉强度和延伸率积温度的升高均逐渐降低，涂层的断裂方式由韧性断裂转变为脆性断裂。