Ti-Si-N纳米复合薄膜的PCVD合成及其高温性能

来源 :第二届中国西安纳米科技研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lwfriendly
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用工业型脉冲直流等离子体增强化学气相沉积技术,在高速钢(W18Cr4V)表面沉积了由纳米晶TiN和纳米非晶Si3N4组成的Ti-Si-N复相薄膜,研究了Ti-Si-N复合薄膜的热稳定性及高温摩擦磨损性能。结果显示:随Si含量在5.1-28.5 at.%范围内增加,薄膜的晶粒尺寸逐渐变大;Ti-Si-N薄膜的显微硬度相对于TiN有明显增加,最高硬度可达40.1GPa;高温退火后发现,Ti-Si-N纳米复合薄膜的显微硬度与晶粒尺寸在800℃高温下仍然保持稳定。加入少量Si元素后,TiN薄膜的抗磨损性能有显著提高,但薄膜的室温摩擦系数较高(大约0.8),高温下摩擦系数也仅有轻微降低(400℃大约0.7)。随薄膜Si含量的上升,Ti-Si-N薄膜耐磨损性能有所下降。
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