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通过羰基钨/钼化学气相沉积工艺制备金属钨、钼膜材料，是一种低温沉积钨、钼薄膜的高效方法。所制备的钨、钼膜层在提高钢铁材料的耐磨耐蚀性，制备大规模集成电路的电路板材料，有机物合成催化剂，光致变色材料，热辐射转换材料等领域具有良好的应用前景。本文介绍了羰基钨、羰基钼的物理化学性质和合成方法，对羰基金属化学气相沉积法制备钨、钼金属膜及钨钼复合膜材料的研究及应用现状进行了综述，并对羰基金属化学气相沉积法制备金属钨、钼膜材料的未来发展进行了展望。