【摘 要】
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微纳结构在微电子技术、传感器件、光学器件等领域的应用研究越来越广泛,从而受到研究者极大的关注。常见的制备方法有光刻法、聚焦离子束刻蚀法等,但这些方法都面临着设
【机 构】
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中国人民大学化学系,北京市海淀区中关村大街 59号,100872
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微纳结构在微电子技术、传感器件、光学器件等领域的应用研究越来越广泛,从而受到研究者极大的关注。常见的制备方法有光刻法、聚焦离子束刻蚀法等,但这些方法都面临着设备技术要求高、制作步骤繁琐及难以大面积制备等问题。我们利用聚合物溶胀的方法来制备微结构[1],不仅操作简易、成本低,而且可以大面积及可调控地制备微结构。其中,我们选择使用聚二甲基硅氧烷(PDMS),通过在其表面镀金之后,利用有机溶剂蒸汽溶胀PDMS,使得其表面的金膜裂解为金纳米颗粒,并利用形成的金结构选择性的诱导硅的刻蚀,最终形成多孔硅[2]。另外,我们利用聚合物相分离,将混有聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的PDMS通过溶剂蒸汽溶胀,在PDMS表面大面积构筑出半球形微胶囊阵列。两种方法所制备的微结构具有特殊的光学性质,并可初步用于物质检测。
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