Highly ordered TiO2 nanostructures by atomic layer deposition on block copolymer micellar films

来源 :第一届国际ALD应用大会暨第二届中国ALD学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sgb158518

【摘要】

：

Atomic layer deposition(ALD)was used to controllably deliver precursors of TiO2 into the cores of micellar films of the amphiphilic block copolymer,poly(styrene-block-4-vinylpyridine)(PS-b-P4VP).

【作者】

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Jun Yin Qiang Xu Zhaogen Wang Xueping Yao Yong Wang

【机构】

：

State Key Laboratory of Materials-Oriented Chemical Engineering,College of Chemistry and Chemical En

【出处】

：

第一届国际ALD应用大会暨第二届中国ALD学术交流会

【发表日期】

：

2012年4期

【关键词】

：

atomic layer deposition block copolymer TiO2 nanoparticle nanowire

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　　Atomic layer deposition(ALD)was used to controllably deliver precursors of TiO2 into the cores of micellar films of the amphiphilic block copolymer,poly(styrene-block-4-vinylpyridine)(PS-b-P4VP).

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