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会议论文
p型Si上电沉积Ni-W-P合金薄膜
p型Si上电沉积Ni-W-P合金薄膜
来源 :中国机械工程学会第五届全国电镀与精饰学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xianghh
【摘 要】
:
首次采用恒电流电沉积方式在p型Si(111)上制备出Ni-W-P合金薄膜。考察了电沉积条件对镀层组成的影响,确定了制备表面致密、具有良好结合力的Ni-W-P合金薄膜的最佳工艺条件。
【作 者】
:
姚素薇
王宏智
【机 构】
:
大学应用化学系
【出 处】
:
中国机械工程学会第五届全国电镀与精饰学术年会
【发表日期】
:
1997年期
【关键词】
:
电沉积条件
合金薄膜
制备表面
工艺条件
镀层组成
沉积方式
结合力
致密
流电
考察
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首次采用恒电流电沉积方式在p型Si(111)上制备出Ni-W-P合金薄膜。考察了电沉积条件对镀层组成的影响,确定了制备表面致密、具有良好结合力的Ni-W-P合金薄膜的最佳工艺条件。
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