薄膜的离子辅助淀积

来源 :第五届全国光学薄膜学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：f360358188

【摘要】

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该文介绍了适用于离子辅助淀积薄膜的宽束离子源，描述了离子束轰击对TiO[*V2*]／SiO[*v2*]，ZnS／MgF[*V2*]两种介质滤光膜以及Al－SiO[*V2*]，单层Cu两种反射膜的性能的变化，研究了离子

【作者】

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凌世德梁晓周鹏飞

【机构】

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上海机械学院仪表分院

【出处】

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第五届全国光学薄膜学术交流会

【发表日期】

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1988年期

【关键词】

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薄膜离子辅助膜性能淀积离子束轰击介质稳定性滤光膜离子源牢固度抗蚀性附着性反射膜描述宽束金属

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该文介绍了适用于离子辅助淀积薄膜的宽束离子源，描述了离子束轰击对TiO[*V2*]／SiO[*v2*]，ZnS／MgF[*V2*]两种介质滤光膜以及Al－SiO[*V2*]，单层Cu两种反射膜的性能的变化，研究了离子辅助淀积对薄膜的牢固度，附着性，抗蚀性和稳定性等性能的改善和提高。结果表明，离子辅助淀积的金属膜性能的改善与对介质膜性能的改善一样显著。（本刊录）

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