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直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的工艺优化
直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的工艺优化
来源 :1998年中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jldxxys
【摘 要】
:
研究了在直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的方法中,工作气压、基片温度和甲烷浓度对金刚石薄膜生长速率和质量的影响,在优化工艺的条件下,以7 ̄10μm/h的速率制备出了白色(透明
【作 者】
:
钟国仿
申发振
黄天斌
【机 构】
:
科技大学材料科学与工程学院材料系表面技术室
【出 处】
:
1998年中国材料研讨会
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
直流电弧等离子体喷射
化学气相
沉积金刚石膜
金刚石厚膜
金刚石薄膜
优化工艺
生长速率
甲烷浓度
基片温度
工作气压
自支撑
质量
方法
白色
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研究了在直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的方法中,工作气压、基片温度和甲烷浓度对金刚石薄膜生长速率和质量的影响,在优化工艺的条件下,以7 ̄10μm/h的速率制备出了白色(透明)自支撑金刚石厚膜。
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