【摘 要】
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本文分析了现有MOCVD设备的加热系统,对电阻丝加热和高频感应加热进行了对比研究。分别对两种加热方式进行了结构设计分析,探讨了各自的加热特点。石墨基座表面的温度均匀性
【机 构】
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华中科技大学武汉光电国家实验室微光机电系统研究部
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本文分析了现有MOCVD设备的加热系统,对电阻丝加热和高频感应加热进行了对比研究。分别对两种加热方式进行了结构设计分析,探讨了各自的加热特点。石墨基座表面的温度均匀性决定于各自的导线布置,石墨基座与加热器之间必须有高平行度。对于电阻丝加热而言,电阻丝布置的均匀性决定了石墨盘温度分布的均匀性;对于高频感应加热而言,导线的空间布置情况是温度均匀性的决定因素。对电阻丝加热而言,石墨基座旋转使得其表面的温度均匀性提高了20％。
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