高性能聚硅氧烷/SiO2纳米复合涂层的制备

来源 :2014中国溶胶-凝胶学术研讨会暨国际论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luciferr1
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  以甲基丙烯酰氧基丙基(甲基)二甲氧基硅烷和甲基三乙氧基硅烷(M为原料,经预水解制备了聚硅氧烷低聚物,与甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(MPS)改性硅溶胶复合,以氨丙基三乙氧基硅烷(APS)为固化剂,制备了聚硅氧烷/SiO2透明涂层.采用红外光谱、热重力分析、纳米压痕仪和铅笔硬度表征了涂层的结构和机械性能.研究了MPS/SiO2比例、胶体SiO2含量、APS用量、膜厚和固化工艺条件对杂化涂层结构和性能的影响,并探讨了体系的固化成膜机理.合适的MPS/SiO2比例和胶体SiO2含量有助于获得高硬度的涂膜,提高固化剂含量可同时增强涂膜的弹性和韧性.低温时湿固化是涂层主要的固化机理,随着温度的升高,Michael加成反应对涂膜的固化贡献增加.通过调节涂层组成和固化条件,得到了韧性佳、硬度高达0.85GPa的纳米复合涂膜.
其他文献
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会议
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In this work, Bi3.25La0.75Ti3O12 (BLT) thin films were prepared by sol-gel coatings followed by rapid thermal annealing in Ar, O2 and atmosphere ambient, respectively.The XPS depth profile and the cor
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