APCVD法硅镀膜玻璃表面形貌及其性能研究

来源 :第四届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：haq1227

【摘要】

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本文通过原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了APCVD法硅镀膜玻璃硅薄膜的表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率的影响.

【作者】

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莫建良;刘峰;沈鸽;张溪文;赵高凌;翁文剑;杜丕一;韩高荣;

【机构】

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浙江大学硅材料国家重点实验室(浙江杭州)

【出处】

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第四届中国功能材料及其应用学术会议

【发表日期】

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2001年期

【关键词】

：

APCVD AFM 硅镀膜玻璃表面形貌能效玻璃

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本文通过原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了APCVD法硅镀膜玻璃硅薄膜的表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率的影响.研究发现不同的制备工艺(沉积温度和基板走速)对薄膜的平均反射率和平均透过率有很大的影响,通过控制合适的工艺参数可以制得具有纳米颗粒镶嵌结构的复合薄膜.此薄膜能有效增加表面的散射漫反射,降低由镜面反射造成的光污染.

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