InχGa1-χN/GaN界面结构高分辨TEM模拟像

来源 :2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuyisea
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@@InGaN材料是用于中短波长光电器件的重要材料,可以通过调节In浓度实现带隙宽度在0.7—3.4eV之间变化从而覆盖红外到紫外波段,是用于中短波长光电器件的重要材料,在蓝绿LED、太阳能电池等器件方面有广阔前景。现阶段InGaN材料主要是在GaN衬底上外延得到,但在In浓度较高时会出现相分离和In原子的偏聚严重影响晶体质量。在生长过程中InxGaI-xN/GaN的界面结构对晶体质量起到至关重要的作用,而对其界面结构深入研究的需求也日益迫切。
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