【摘 要】
：
使用壳聚糖作修饰剂,在甲酸介质中对纳米二氧化硅进行修饰改性,制备了壳聚糖-二氧化硅(CS-SiO2)纳米杂化材料；接下来,通过配位还原的方法将金属Pd和Au负载到CS-SiO2上,从而制得金属负载的壳聚糖-二氧化硅(M/CS-SiO2)杂化材料.借助傅立叶变换红外光谱、X-射线衍射光谱、透射电镜等方法对杂化材料进行表征；同时,采用热重分析对杂化材料的热力学性能进行了研究.
【机 构】
：
天津大学化工学院催化科学和工程系,天津300072
【出 处】
：
中国工程院化工、冶金与材料工学部第七届学术会议
论文部分内容阅读
使用壳聚糖作修饰剂,在甲酸介质中对纳米二氧化硅进行修饰改性,制备了壳聚糖-二氧化硅(CS-SiO2)纳米杂化材料；接下来,通过配位还原的方法将金属Pd和Au负载到CS-SiO2上,从而制得金属负载的壳聚糖-二氧化硅(M/CS-SiO2)杂化材料.借助傅立叶变换红外光谱、X-射线衍射光谱、透射电镜等方法对杂化材料进行表征；同时,采用热重分析对杂化材料的热力学性能进行了研究.
其他文献
本文介绍了一种发现新农药的创新研究方法及利用此方法研制的部分候选农药品种,也就是基于生物等排理论的中间体衍生化方法及其应用,同时介绍了创新方法的理论基础.
使用偕胺肟改性聚丙烯腈纤维(AO-PAN)与FeCl3反应制备了PAN纤维铁配合物(Fe-AO-PAN),考察了PAN纤维氰基转化率(CP％)、溶液中铁离子浓度(CFe)和反应温度等因素对Fe-AO-PAN配合物中铁离子含量( CFe-PAN)的影响.此外还研究了AO-PAN纤维与Fe(Ⅲ)离子的配位反应动力学问题.结果表明,增加CP％和CFe,升高反应温度都会导致Fe-AO-PAN配合物中CFe
以电子在半导体薄膜内的扩散和复合理论动力学为基础,建立染料敏化太阳能电池(DSC)基于二次复合反应的动力学模型,模拟计算得到电池内部电子浓度分布及膜厚度对电池性能及电池输出特性的影响,并与文献实验结果进行了比较.通过模型计算,在以TiO2为基本材料的DSC制备中,最佳膜厚范围在4.5～13μm之间,与文献中的实验结果一致.该模型准确描述了DSC的工作机理以及内部电子传输与复合的过程,提出优化电池结
本文采用水平浸没式探头测定了气-液-固三相并流磁稳定床的传热特性,空气、水、非晶态镍合金(0.12～0.20mm)分别被用作气相、液相和固相.实验研究了并流稳定床中磁场强度、表观液速、表观气速、液体黏度、表面张力对局部传热系数的影响.并建立了Nu数与Re、Pr、Bo数的关联式,该关联式能很好地预测磁稳定床的传热系数,平均偏差小于10％.
目的 对胡颓子科(Elaegnaceae)胡颓子属(Elaeagnus)沙枣(Elaeagnus angusti folia L.)树皮的95％乙醇提取物进行分离并鉴定.方法 经反复纯化制备化合物,并根据化合物的理化性质、波谱解析及与文献报道对比鉴定化合物的化学结构.结果 从95％乙醇室温提取物中分离得到5个化合物,根据理化性质和波谱解析分别鉴定为儿茶素[ (+)-catechin,Ⅰ]、表没食子
The invention of Ge semiconductor transistors starts the microelectronic revolution.A vast amount of research work on Ge has led to the formulation of many basic physical principles and theories which
本文首先从凝固过程的宏观现象与微观过程的相关性分析入手,对凝固原理与技术的研究范畴进行了概述,从晶粒尺寸与相结构的控制,晶内亚结构的控制,成分偏析的控制,多相凝固组织的形成与控制,化合物晶体中点缺陷的控制,凝固过程研究的几个主要方面的研究进展进行了综述,其中包含了作者的部分研究工作.
矿化胶原是骨牙结缔组织中的基本结构单元.从材料学角度认识其组装机理是研发骨牙再生材料的新课题.本文概述了近年来围绕矿化胶原的分级结构和自组装机理的研究工作进展以及在此基础上的仿生合成.重点说明目前对胶原生物矿化机理的了解程度和尚在探索中的重要课题.从这项研究也可看到生物材料研发中仿生思路的重要性.
减细纤维束三维五向锥管形预制体已成功应用于航天飞行器高性能复合材料构件.为分析该类型预制体几何尺寸、计算纤维体积百分含量等特性参数,本文研究了最简单的逐步全减细纤维束工艺,通过分析纤维束的运动走向和位置分布,获得了这种预制体的五种单胞；根据不同的单胞结构将锥管形预制体分为五个区域,对不同分区分别构建几何模型,得到了逐步全减细纤维束预制体的内部细观结构.
低压等离子喷涂薄涂层技术( LPPS-TF,Low Pressure Plasma Spray-Thin Film)是在低压等离子喷涂(LPPS,Low Pressure Plasma Spray)技术的基础上发展起来的一种新技术,它在涂层的厚度上填补了常规热喷涂和PVD、CVD之间的厚度间隙,即5～50μm.这种技术能高速、高效、高质地制备功能涂层,同时和PVD等技术相比又有十分明显的经济优势.