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以正硅酸乙酯为前驱体，采用溶胶-凝胶技术制备了Eu3+掺杂纳米多孔二氧化硅发光薄膜。SEM和XRD等表征结果表明，薄膜表面颖粒分布均匀，为纳米多孔网络结构和无定形态，分析了不同退火温度和不同Eu3+掺杂浓度对薄膜荧光性能的影响，薄膜发射光谱中出现620nm发射峰，为Eu3+特征发射光谱;随退火温度升高，薄膜发射光的强度增大;当Eu3+掺杂浓度为0.5％时，薄膜发光强度最大。