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化学处理和高温快速氧化对多孔硅发光性能的影响
【机 构】
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光电子学国家重点联合实验室,中国科学院半导体研究所(北京)
【出 处】
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第十届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
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1997年期
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