论文部分内容阅读
采用射频反应磁控溅射系统制备氮化铝(AlN)薄膜,通过实验测试并结合数值拟合计算研究了工作气压对其结构和光学性能的影响。结果表明,所获得的AlN薄膜样品是晶态的,其晶格属六方晶系,工作气压增大对AlN薄膜的生长取向有一定影响。薄膜在可见光及近红外区域透明,表面平整、致密,结晶状况良好。薄膜的晶粒尺寸、折射率和沉积速率均随工作气压增大而减小。