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利用TiO2的光催化特性，对光催化沉积法进行改进。详细介
绍该工艺过程，并对所制管式钯膜的表面形
貌、厚度及氢渗透性能进行了表征。
改进的光催化沉积法(PCD)制备钯膜的研究
【摘 要】
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利用TiO2的光催化特性，对光催化沉积法进行改进。详细介 绍该工艺过程，并对所制管式钯膜的表面形 貌、厚度及氢渗透性能进行了表征。
【机 构】
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南京工业大学膜科学技术研究所,南京,210009
【出 处】
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第五届全国膜与膜过程学术报告会
【发表日期】
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2005年期
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