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会议论文
PVD技术在CCL的应用研究
PVD技术在CCL的应用研究
来源 :2007中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术/信息论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yy19871003
【摘 要】
:
物理气相沉积是在现代物理、化学、材料学、电子学等多学科基础上,经过多年的不断发展而成为一门新兴先进的工程技术。本文论述了运用先进的物理气相沉积(PVD)薄膜技术,提出了
【作 者】
:
严光能
【出 处】
:
2007中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术/信息论坛
【发表日期】
:
2007年期
【关键词】
:
工程技术
物理气相沉积
学科基础
薄膜技术
电子学
材料学
运用
线路
化学
工艺
板材
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物理气相沉积是在现代物理、化学、材料学、电子学等多学科基础上,经过多年的不断发展而成为一门新兴先进的工程技术。本文论述了运用先进的物理气相沉积(PVD)薄膜技术,提出了新的线路板材工艺。
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