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镁合金化学镀Ni-B镀层沉积机理研究
镁合金化学镀Ni-B镀层沉积机理研究
来源 :第十四次全国电化学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wolfseason
【摘 要】
:
镁合金化学镀的沉积机理研究大多数集中在化学镀Ni-P合金,对化学镀Ni-B合金的沉积机理研究目前尚未见详细报道。本文采用扫描电子显微镜(SEM)、能量散射光谱仪(EDS)以及俄歇
【作 者】
:
王周成
唐毅
彭淑合
【机 构】
:
厦道门大学化学化工学院,福建,厦门,361005
【出 处】
:
第十四次全国电化学会议
【发表日期】
:
2007年期
【关键词】
:
合金化学镀
镀层
沉积机理
机理研究
扫描电子显微镜
镁合金
光谱仪
能量散射
俄歇电子
系统
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镁合金化学镀的沉积机理研究大多数集中在化学镀Ni-P合金,对化学镀Ni-B合金的沉积机理研究目前尚未见详细报道。本文采用扫描电子显微镜(SEM)、能量散射光谱仪(EDS)以及俄歇电子光谱仪(AES)对AZ91D镁合金直接化学镀Ni-B镀层的沉积机理进行了较为系统和详细研究。
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