电弧离子镀沉积工艺参数对CrN薄膜性能的影响

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与TiN相比,CrN膜具有低的内应力、更好的韧性、耐磨性和抗腐蚀性能等优点,在一些应用领域如汽车、船舶等,CrN薄膜具有更强的应用性能,是继TiN薄膜之后的研究热点之一。本试验采用电弧离子镀技术在6Crl3Mo低碳马氏体不锈钢基体表面沉积CrN薄膜,以气压、弧电流和偏压为因素利用正交试验优化CrN薄膜制备工艺,并讨论制备工艺对薄膜性能的影响。借助SEM分析薄膜表面和截面形貌;使用3D轮廓仪测量薄膜厚度;利用MH-5D硬度计测量薄膜的维氏硬度;通过划痕方法检测膜层与基体的结合强度;通过采用磨损试验机和3D轮廓仪测得膜层磨损率;以硬度、磨损率、结合强度、膜层厚度为目标函数,利用极差分析法分析各个因素对目标函数的影响规律,得到CrN薄膜的最佳制备工艺。结果表明:靶电流对薄膜厚度及结合力影响最大,负偏压对薄膜硬度影响最大,所制备的CrN膜层的磨损率约为25×10-7mm3/N·m,当气压1.4 Pa、靶电流100 A、偏压-100 V时,制备的CrN薄膜综合性能最佳。
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