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磁控溅射技术是一种生长太阳电池用绒面结构ZnO-TCO 薄膜的主流技术.绒面结构可以提高薄膜太阳电池效率和稳定性,从而降低生产成本.实验中溅射靶材为陶瓷靶ZnO:Ga2O3,工作气体采用Ar 和H2 气体,利用磁控溅射技术直接生长获得了太阳电池用绒面结构氢化Ga 掺杂ZnO 薄膜,并研究了其微观结构和光电性能.具体内容：1)通过调节沉积参数,生长获得了绒面结构HGZO 薄膜,薄膜表面呈现“弹坑状”形貌,方块电阻~4.0-7.0.,可见光及近红外区域透过率~85％.2)为了进一步提高薄膜光散射能力和光学透过率,根据不同H2 流量下HGZO 薄膜性能的优点,提出了梯度H2 技术生长HGZO 薄膜；采用梯度H2 工艺生长获得的HGZO 薄膜长波区域透过率有了一定的提高,薄膜具有弹坑状表面形貌,并且其光散射能力有了明显提高.3)采用缓冲层技术生长绒面结构HGZO 薄膜,生长获得的IWO/HGZO 薄膜方块电阻为~3.6.,可见光及近红外区域透过率(400-1100nm)为82.18％,薄膜绒度(550nm 波长处)为18.37％.