高Tc超导Nb—Ge膜的制备和表面研究

来源 :全国首届材料科学与工程学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wmwanll

【摘要】

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采用直流吸气溅射法获得了Tc起始为23K的超导Nb—Ge膜。用X—射线衍射仪测定Nb—Ge膜的相结构及A15相的晶格常数。用四引线法测定超导转变温度。用XRFA测定Nb—Ge比。用AES和

【作者】

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陈岚峰曹朝霞

【机构】

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北京有色金属研究总院

【出处】

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全国首届材料科学与工程学术年会

【发表日期】

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1986年期

【关键词】

：

超导转变温度膜的制备测定射线衍射仪元素性质四引线法生长机制深度剖面晶格常数价态结构相结构隧道结溅射法直流信息吸气分布

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采用直流吸气溅射法获得了Tc起始为23K的超导Nb—Ge膜。用X—射线衍射仪测定Nb—Ge膜的相结构及A15相的晶格常数。用四引线法测定超导转变温度。用XRFA测定Nb—Ge比。用AES和ESCA谱作了Nb、Ge和C、O、Al等元素性质及价态结构沿深度剖面的分布。其结果为探索亚稳高Tc相的生长机制和A15隧道结制备提供重要信息。（本刊录）

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