高Tc超导Nb—Ge膜的制备和表面研究

来源 :全国首届材料科学与工程学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wmwanll
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采用直流吸气溅射法获得了Tc起始为23K的超导Nb—Ge膜。用X—射线衍射仪测定Nb—Ge膜的相结构及A15相的晶格常数。用四引线法测定超导转变温度。用XRFA测定Nb—Ge比。用AES和ESCA谱作了Nb、Ge和C、O、Al等元素性质及价态结构沿深度剖面的分布。其结果为探索亚稳高Tc相的生长机制和A15隧道结制备提供重要信息。(本刊录)
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