新型多功能正畸粘接剂预防托槽周围釉质脱矿的体外研究

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目的通过在商品化正畸粘接剂中添加抗蛋白组分MPC,抗菌组分DMAHDM,再矿化组分NACP,对正畸粘接材料进行改性,探索新材料在体外防预脱矿性能方面的优势,提出预防正畸治疗产生的釉质脱矿,降低白斑发生率的新策略。材料和方法将48颗离体前磨牙随机分为四组(n=12),分别用商品化粘接剂Transbond、GC作为对照,以及改性粘接剂GC+MPC+DMAHDM,GC+MPC+DMAHDM+NACP两实验组共四种材料粘接托槽,利用体外培养的全菌生物膜模型对离体牙脱矿14天后,通过偏光显微镜法(Polarized-light microscopy,PLM),努式显微硬度法(Knoop Micro-hardness,KMH)和扫描电镜法(Scanning electron microscope,SEM)比较四种粘接剂托槽边缘釉质脱矿的深度和程度。结果 GC+MPC+DMAHDM+NACP组脱矿深度(57.26±10.21μm)明显低于GC组(95.77±10.67μm)和Transbond组(164.28±14.31μm),距托槽不同远处和不同深度的显微硬度均明显高于GC和Transbond对照组(P<0.05),脱矿程度(ΔS)是GC对照组的1/3(P<0.05)。扫描电镜显示加入再矿化组分NACP后,表层釉柱和釉间质脱矿程度明显低于其他三组。结论新型正畸粘接剂GC+MPC+DMAHDM+NACP具有较强的预防釉质脱矿和再矿化能力,对临床中降低正畸治疗后白斑发病率具有重要意义。
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