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金刚石膜具有高的X射线透过率、辐射硬度、杨氏模量、导热率,是新型的X射线掩模基膜材料.根据X射线光刻对基膜材料的要求,本文研究了微波等离子体CVD法生长的金刚石膜的应力、表面粗糙度、光学透过率.采用X射线衍射仪法(sin<2>ψ)和激光喇曼法评价金刚石膜应力.实验结果表明,通过改变制备工艺条件,应力值可以控制在基膜材料要求的0.5GPa以下的张应力.原子力显微镜测试的表面粗糙度为80nm左右.波长632.8nm处的光学透过率接近50℅.在制备的金刚石膜样品背面开窗腐蚀成膜的最大孔径为8nm,可在样品正面制作金吸收体图形,制成完整的掩模版样品.