基于椭偏法的介质薄膜光学常数测量研究

来源 :陕西省物理学会2008年学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:6ri
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类金刚石薄膜是采用脉冲真空电弧镀的方法在底基为N型和P型的单面抛光硅片上沉淀,氧化铪薄膜是采用物理气相沉积法在玻璃上沉淀。利用椭偏仪测量这两种薄膜的光学常数和膜厚,研究发现类金刚石薄膜在可见光波段色散性比较弱;对于氧化铪薄膜,在充入同样的氧气和氩气比例时,电子能量越大,氧化铪薄膜的折射率和消光系数越大。在同样的电子能量下,氧气和氩气的比例中,氧气的比重越大其折射率和消光系数越大。
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