多吡咯及其衍生物的合成

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氟硼二吡咯类荧光染料具有一些优异的特性:如较高的荧光量子产率和摩尔消光系数;良好的光稳定性[1];对极性和p H环境不敏感;具有尖锐的紫外吸收和荧光发射峰,以及易于进行化学修饰等,被广泛应用于激光染料、能量转移盒、荧光分子开关、接收天线、太阳能电池和光敏试剂等领域.本论文[2,3]合成了一系列三吡咯和四吡咯的吡咯衍生物新型染料分子,极大增强了BODIPY染料骨架的共轭程度.染料分子最大吸收波长可红移到716 nm.同时,在R1和R2上引入重原子溴,这类染料分子可作为近红外的光敏剂[3].
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