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0.25×5mm铜稳定多芯Nb[*v3*]Sn扁带研制与性能
0.25×5mm铜稳定多芯Nb[*v3*]Sn扁带研制与性能
来源 :第六届全国高临界参数超导体学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gtowdp86
【摘 要】
:
该文报导了高场磁体用予反应多芯Nb[*v3*]Sn超导带的制造工艺与性能,给出主要工艺参数并分析了轧制工艺与导体性能的关系,由该工艺制造的导体具有良好的高场性能(4.2K·14T·1c为
【作 者】
:
张旭东
刘春芳
周仲义
【机 构】
:
宝鸡稀有金属加工研究所
【出 处】
:
第六届全国高临界参数超导体学术交流会
【发表日期】
:
1986年期
【关键词】
:
多芯
扁带
工艺与性能
工艺制造
轧制工艺
工艺参数
导体性能
超导带
磁体
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该文报导了高场磁体用予反应多芯Nb[*v3*]Sn超导带的制造工艺与性能,给出主要工艺参数并分析了轧制工艺与导体性能的关系,由该工艺制造的导体具有良好的高场性能(4.2K·14T·1c为320A)。(本刊录)
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