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用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对黄铜的缓蚀作用。结果表明,植酸分子易在黄铜表面形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试黄铜表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,并有有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结果一致。