先进镀膜工艺及工业化生产对Hipims电源的挑战

来源 :第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届 PVD 企校合作高层论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yaraksuper

【作者】

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【机构】

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德国霍廷格电子有限公司

【出处】

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第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届 PVD 企校合作高层论坛

【发表日期】

：

2017年12期

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