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偏压对等离子增强沉积Zr-N薄膜结构及电化学性能的影响
偏压对等离子增强沉积Zr-N薄膜结构及电化学性能的影响
来源 :2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:silkji
【摘 要】
:
本文主要介绍了利用ECR-微波等离子溅射沉积技术不同偏压下在45#钢基体上制备了Zr-N薄膜,并讨论了偏压对薄膜的微观结构和耐蚀性能的影响原因.
【作 者】
:
刘天伟
董闯
邓新绿
【机 构】
:
中国工程物理研究院(四川省绵阳市)
【出 处】
:
2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
微波等离子
增强沉积
薄膜结构
电化学性能
溅射沉积技术
影响原因
微观结构
耐蚀性能
钢基体
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本文主要介绍了利用ECR-微波等离子溅射沉积技术不同偏压下在45#钢基体上制备了Zr-N薄膜,并讨论了偏压对薄膜的微观结构和耐蚀性能的影响原因.
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