Industrial emitter and BSF optimization using POCl3 and implant

来源 :第八届中国太阳级硅及光伏发电研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ufs2997izxn
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  Boron diffusion optimization is studied for n-type solar cells using improved hardware set-up and process conditions to achieve best in class Cost of Ownership performance.Phosphorus diffusion has been optimized to obtain different surface doping concentrations for same sheet resistance.Using this Emitter Profile Optimization (EPO) technology we show efficiency improvements.
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