【摘 要】
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国际上集成电路制造已经使用300mm硅片,实现特征线宽45nm的生产技术,但对国内材料厂家而言,能够大批量生产的最大直径硅片仅有150mm、200mm以上直径硅片则主要依赖进口。本文
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国际上集成电路制造已经使用300mm硅片,实现特征线宽45nm的生产技术,但对国内材料厂家而言,能够大批量生产的最大直径硅片仅有150mm、200mm以上直径硅片则主要依赖进口。本文着重介绍对集成电路用150mm硅抛光片关键几何参数——局部平整度(SBIR)的研究,从硅片腐蚀、贴片前清洗、有蜡贴片到化学机械抛光,对与之相关的各个工序进行细致研究,综合分析各研究结果,在原有基础上进一步对有重要影响的工艺进行优化,从而得到具有高局部平整度的硅抛光片。
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