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通过Sonogashira偶联反应合成了主链含苯环和炔基,侧基含有机硅基的新型含硅共轭聚合物.用1H-NMR、GPC对聚合物进行了表征,并用TGA、DSC对其进行了热性能分析,对其基本光物理性质采用UV-Vis、FL进行了初步研究.
新型含硅共轭聚合物的合成及表征
【摘 要】
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通过Sonogashira偶联反应合成了主链含苯环和炔基,侧基含有机硅基的新型含硅共轭聚合物.用1H-NMR、GPC对聚合物进行了表征,并用TGA、DSC对其进行了热性能分析,对其基本光物理
【机 构】
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中国科学院化学研究所,北京分子科学国家实验室,北京 100190
【出 处】
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第十四届中国有机硅学术交流会
【发表日期】
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2008年期
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