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利用金属催化刻蚀制备具有超低反射率的有序硅纳米柱阵列
利用金属催化刻蚀制备具有超低反射率的有序硅纳米柱阵列
来源 :中国化学会第30届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:delphi_quaker
【摘 要】
:
降低表面反射率是提高光学及光电学器件效率的一种重要方法[1,2].因此,我们利用金属催化刻蚀的方法[3]在硅表面制备有序硅纳米柱阵列,将硅表面250-1050纳米波段内的平均
【作 者】
:
滕飞
李宁
刘凌霄
徐大任
肖东洋
吕男
【机 构】
:
吉林大学化学学院,超分子结构与材料国家重点实验室,中国长春,130012
【出 处】
:
中国化学会第30届学术年会
【发表日期】
:
2016年期
【关键词】
:
金属催化
刻蚀
表面制备
低反射率
纳米柱
硅表面
平均反射率
表面反射率
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降低表面反射率是提高光学及光电学器件效率的一种重要方法[1,2].因此,我们利用金属催化刻蚀的方法[3]在硅表面制备有序硅纳米柱阵列,将硅表面250-1050纳米波段内的平均反射率从45%降至0.1%,如图一所示.并且入射光角度从0°增加到70°时,反射率仍然低于1.2%.
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