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反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜的光催化特性研究
反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜的光催化特性研究
来源 :华东三省一市第三届真空学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wuyan68
【摘 要】
:
本文在磁控溅射器中用钛板作阴极,采用反应磁控溅射方法在玻璃基板上制备了二氧化钛薄膜,并研究了其光催化特性。
【作 者】
:
章壮健
张永熙
董昊
杨锡良
陈华仙
沈杰
蒋益明
【机 构】
:
复旦大学材料科学系,200433
【出 处】
:
华东三省一市第三届真空学术交流会
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
磁控溅射器
溅射制备
二氧化钛薄膜
光催化
混合气体
溅射方法
玻璃基板
阴极
钛板
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本文在磁控溅射器中用钛板作阴极,采用反应磁控溅射方法在玻璃基板上制备了二氧化钛薄膜,并研究了其光催化特性。
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