溅射工艺对金属Nb薄膜微结构及红外反射特性的影响

来源 :第九届全国X-射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fllmn2585

【摘要】

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本文采用直流磁控溅射方法,改变溅射功率和溅射气压,在不锈钢基底上制备了金属Nb薄膜.分别采用XRD和傅立叶红外光谱仪对不同工艺参数下薄膜结构参数和红外反射谱进行了测试.

【作者】

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周珑王聪杜心康陈步亮茹宁王天民

【机构】

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北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083北京航空航天大学理学院,凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083;石家庄军械工程学院,河北,050031中国空间技术研究

【出处】

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第九届全国X-射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

【发表日期】

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2006年10期

【关键词】

：

磁控溅射金属Nb薄膜红外反射谱

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本文采用直流磁控溅射方法,改变溅射功率和溅射气压,在不锈钢基底上制备了金属Nb薄膜.分别采用XRD和傅立叶红外光谱仪对不同工艺参数下薄膜结构参数和红外反射谱进行了测试.讨论了工艺参数、晶体结构参数与红外反射特性之间的关系,分析了影响红外反射特性的原因.结果表明,在不同工艺条件下制备的Nb膜均为面心立方结构,且呈现很强的(110)结晶取向,溅射功率和溅射气压均会通过影响溅射过程、薄膜结构、致密度和表面形态而影响薄膜的红外反射率.

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