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利用等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）在厚度为20μm的PLA基材上制备了阻隔性能优良的高阻隔SiOx层，无色透明且与基材附着牢固。用FTIR、SEM和AFM表征了沉积SiOx层的PLA薄膜。结果得到：结构均匀致密，SiOx层厚度为248nm，氧气透过率从原膜的257.7563cc/[m2·day]降低到23.72629cc/[m2·day]，水蒸气透过率从原膜的202.9313gm/[m2·day]降低到18.35087gm/[m2·day]，阻隔性能明显改善。