【摘 要】
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本文根据原子层沉积(ALD)方法的基本原理,设计出一种制备石墨烯薄膜材料的方法.ALD是现今一种较新的薄膜制备技术,它的优势在于能够制备出只有一个原子层厚度的薄膜,而且
【机 构】
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中国科学院 微电子研究所 嘉兴微电子仪器与设备工程中心,浙江嘉兴314006
【出 处】
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2010(第三届)中国微纳电子技术交流与学术研讨会
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本文根据原子层沉积(ALD)方法的基本原理,设计出一种制备石墨烯薄膜材料的方法.ALD是现今一种较新的薄膜制备技术,它的优势在于能够制备出只有一个原子层厚度的薄膜,而且薄膜的均匀性和致密性较好,这些优点完全符合薄膜材料的制备,特别是满足石墨烯薄膜的制备要求.目前采取ALD的方式沉积石墨烯薄膜,最大的难点在于碳原子的化学吸附,由于含碳化合物在自然界中比较稳定,如CO2,CH4等,即使一些较不稳定的物质,如CO等,虽然它能发生一些化学反应,但大多产生CO2气体,要使碳原子稳定的吸附在特定的衬底材料上,存在一定困难.
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