SnO2纳米线的制备及其气敏性能

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【摘要】

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本文以单质Sn为源料运用热蒸发法在较低真空度下成功获得了SnO2纳米线.利用X射线衍射仪(XRD)及扫描电子显微镜(SEM)对所得纳米线的成分、结构及形貌进行了分析,结果表明所制

【作者】

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杜军军杨春军李建辉刘闪魏慧君毛磊

【机构】

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河北科技大学材料科学与工程学院,河北石家庄050018;河北省材料近净成形技术重点实验室,河北石家庄050018河北科技大学材料科学与工程学院,河北石家庄050018

【出处】

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华北地区第二十届热处理技术交流会

【发表日期】

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2014年9期

【关键词】

：

二氧化锡半导体纳米线制备工艺组织结构气敏性能

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本文以单质Sn为源料运用热蒸发法在较低真空度下成功获得了SnO2纳米线.利用X射线衍射仪(XRD)及扫描电子显微镜(SEM)对所得纳米线的成分、结构及形貌进行了分析,结果表明所制备的纳米线为金红石结构二氧化锡单晶体,直径在70nm左右.将该纳米线制备成气敏元件,进行气敏性能测试,结果表明:该元件最佳工作温度为300℃,对易挥发可燃气氛甲醇、乙醇、丙酮有良好的灵敏度及快速的响应/恢复特性.

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