【摘 要】
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微纳尺寸的薄膜材料作为纳米材料中的重要组成部分,具有光、电、磁、热等方面的优异特性,应用前景非常广泛。薄膜材料的性能强烈依赖于晶粒尺寸、膜厚、表面粗糙度、内部
【机 构】
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中山大学光电材料与技术国家重点实验室,广东广州,510275
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微纳尺寸的薄膜材料作为纳米材料中的重要组成部分,具有光、电、磁、热等方面的优异特性,应用前景非常广泛。薄膜材料的性能强烈依赖于晶粒尺寸、膜厚、表面粗糙度、内部结构等,这也是目前微纳结构雕塑薄膜研究的主要内容。本小组引入基于物理气相沉积的薄膜制备新技术--- 倾斜沉积(Glancing angle deposition,GLAD)技术[1],有效控制了沉积角度、衬底温度、基底旋转方式以及沉积时间等参数,在原子量级自阴影效应、表面原子低迁移率及竞争生长效应这三大主要因素的作用下,得到了形貌可控、结构多样的微纳结构雕塑薄膜,如斜柱状、直柱状、螺旋状等等,可实现其在微纳光电子器件等领域的应用。
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